氮化物研磨分散機，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機，是由膠體磨+高剪切分散機組成，形成一體化的設備，先研磨后分散，避免物料團聚。

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氮化物，氮化物是一類氮的化合物，其中氮顯-3價。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負三價)，習慣上將氨作為一種特殊物質，不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩定性高，可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩定性也比較高，各具特殊性質。六方氮化硼是優良潤滑劑；而立方氮化硼硬度大，可用來制車刀、鉆頭等。

氮化物的應用和氧化物的應用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質當中，需要進行研磨分散細化，SGN分散設備采用特殊的內部結構，將研磨機和分散機合二為一，物料可以實現一步到位的研磨分散處理，氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設備可以獲得均勻的漿料體系，并且物料粒徑一般可細化至DN90≤1μm。

SGN研磨式分散機，將膠體磨和分散機一體化結合，先研磨后分散機，解決團聚問題！

GMD2000系列研磨式分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
              

GMD2000系列研磨式分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

GMD2000系列研磨分散機設備選型表

1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。

4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.
 

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信息來源：www.sgnprocess。。ｃｎ