上海SGN技術，*創意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成。

產品型號：GMSD2000/4

更新時間：2025-07-25

廠商性質：生產廠家

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膠體磨

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三級乳化機主要用于微乳液及超細懸乳液的生產

產品介紹

改良型膠體磨，創新膠體磨，研磨分散膠體磨，研磨分散機，改進型膠體磨

上海SGN技術，*創意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。

改良型膠體磨，這種*的設計，放眼世界，獨上海SGN一家，咨詢

SGN改進型膠體磨，研磨分散機，簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時間差因素。從成本上來講，原先兩臺設備的價格，現在用一臺研磨分散機就可以完成，性價比更高。

GMD2000系列，研磨分散設備是SGN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

GMD2000系列，研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

GMD2000系列改進型膠體磨設備選型表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
GMD 2000/5	1000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
GMD 2000/10	3000	4,200	23	22	DN80/DN65
GMD 2000/20	8000	2,850	23	37	DN80/DN65
GMD 2000/30	20000	1,420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50	60000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。