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        江蘇思峻機械設備

        專注于分散、乳化、均質領域

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        當前位置:首頁產品中心分散機納米分散機納米二氧化硅分散機

        納米二氧化硅分散機
        產品簡介:

        納米二氧化硅分散機,對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN研發出新型設備-研磨分散機,應對納米物質的分散問題。

        產品型號:

        更新時間:2025-07-26

        廠商性質:生產廠家

        訪 問 量 :152

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        產品介紹

        一、產品名稱:納米二氧化硅分散機,納米二氧化硅超細分散機,納米二氧化硅高速分散機,納米二氧化硅研磨分散機

         

        二、納米二氧化硅性質及應用

         

        納米二氧化硅是極其重要的高科技超微細無機材料之一,因其粒徑很小,比表面積大,表面吸附力強,表面能大,化學純度高、分散性能好,熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其*的穩定性、補強性、增稠性和觸變性,在眾多學科及領域內*特性,有著不可取代的作用。

        納米二氧化硅俗稱“超微細白炭黑”,廣泛用于各行業作為添加劑、催化劑載體,石油化工,脫色劑,消光劑,橡膠補強劑,塑料充填劑,油墨增稠劑,高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫藥、環保等各領域。

         

        (價格電議,劉,,公司有樣機可提供實驗!)

         

        納米分散機

         

        三、納米二氧化硅分散應用及難點

         

        納米二氧化硅分散在多個領域都有著重要的應用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。SGN研磨分散機*的結構,全新的技術,專業應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。

                   
        對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN研發出新型設備-研磨分散機,應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN研磨分散機進行分散處理,*。

         

        四、SGN納米二氧化硅分散機結構

         

        納米分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。 

        納米分散機

        *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
         

        第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。


        五、SGN特點

         

        ①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。

        ②定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

        ③定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

        ④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

        ⑤高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

         

        六、SGN選型表

         

        研磨分散機

        流量*

        輸出

        線速度

        功率

        入口/出口連接

        類型

        l/h

        rpm

        m/s

        kW

         

        GMD 2000/4

        300

        9,000

        23

        2.2

        DN25/DN15

        GMD 2000/5

        1000

        6,000

        23

        7.5

        DN40/DN32

        GMD 2000/10

        3000

        4,200

        23

        22

        DN80/DN65

        GMD 2000/20

        8000

        2,850

        23

        37

        DN80/DN65

        GMD 2000/30

        20000

        1,420

        23

        55

        DN150/DN125

        GMD2000/50

        60000

        1,100

        23

        110

        DN200/DN150

        *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。

         

        ,納米二氧化硅超細分散機,納米二氧化硅高速分散機,納米二氧化硅研磨分散機

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